Procesador de limpieza por plasma

El HY-EL25H es un sistema de tratamiento de plasma de laboratorio ampliamente utilizado por institutos de investigación, departamentos de I+D de empresas y líneas de producción piloto de lotes pequeños. Emplea la tecnología de descarga CCP (Plasma Acoplado Capacitivamente). El sistema completo consta de una cámara de vacío cuadrada de acero inoxidable, un generador de plasma, una bomba de vacío y puertos de entrada y salida de gas.Mejora eficazmente la adhesión a la superficie del sustrato y aumenta su hidrofilicidad, con amplias aplicaciones en la unión de materiales, recubrimientos, deposición de películas sobre sustratos y unión de obleas. Este equipo proporciona un tratamiento de plasma estable y reproducible para proyectos de investigación en semiconductores, microfluídica y nuevos materiales.

El HY-DD600 cuenta con una boquilla estrecha (de 2 a 6 mm de ancho efectivo), ideal para componentes diminutos y sensibles de alta precisión, como chips, circuitos flexibles FPC y sustratos BGA en miniatura. Su chorro de plasma de baja temperatura y potencial cero elimina el riesgo de quemaduras térmicas en materiales PI/ITO ultrafinos. Su diseño compacto permite trabajar en espacios reducidos y microestructuras complejas, adaptándose perfectamente a las líneas de unión y dispensación automáticas de pequeño tamaño para el encapsulado de semiconductores y el pretratamiento de módulos de cámara.