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Molinillo de obleas

Molinillo de obleas Es un proceso clave en la fabricación de semiconductores y el empaquetado avanzado.
Nuestras máquinas de rectificado de obleas se utilizan principalmente para el adelgazamiento de precisión de materiales semiconductores duros y frágiles como zafiro, obleas de silicio, obleas de germanio, carburo de silicio, nitruro de galio, arseniuro de galio, nitruro de silicio y cerámica. También son adecuadas para el adelgazamiento de la cara posterior de obleas de silicio utilizadas en circuitos integrados (CI), dispositivos discretos y LED.
  • High-Performance 12-inch Hard Brittle Wafer Processing Machine
    Equipos de alto rendimiento para el adelgazamiento y pulido de obleas de sustratos duros y frágiles de 12 pulgadas.
    La HY-WT9330 está equipada con un husillo de rectificado con cojinetes de aire y dos husillos de piezas de trabajo con cojinetes de aire. Puede procesar diversos sustratos ultraduros, frágiles y difíciles de rectificar de hasta 12 pulgadas, lo que permite un rectificado espejo de alta eficiencia, sin daños y de ultraprecisión, con una precisión de espesor excepcional, adecuado para el proceso de adelgazamiento posterior de todo tipo de obleas de chips.
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  • Ultra-Low TTV Wafer Backside Grinder
    Rectificadora de obleas totalmente automática con husillo de cojinetes de aire y mesa de mandril
    La HY-WT9530 está equipada con dos husillos con cojinetes de aire y tres mesas de sujeción por vacío para sustratos duros y frágiles de hasta 8 pulgadas. Los operarios solo necesitan cargar los casetes manualmente, mientras que la máquina realiza ciclos totalmente automáticos que incluyen rectificado grueso/fino, limpieza y recuperación. El TTV posterior al rectificado es ≤1,5 ​​μm, con una excelente planitud y rugosidad superficial, lo que la hace adecuada para el adelgazamiento de la cara posterior de diversas obleas semiconductoras.
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  • Automatic Wafer Grinding and Polishing Equipment
    Máquina totalmente automática de rectificado y pulido de obleas para el embalaje de semiconductores.
    La HY-WT9730 admite obleas de hasta 12 pulgadas. Equipada con 3 husillos de rectificado con cojinetes de aire y 4 husillos de piezas con cojinetes de aire, integra procesos de rectificado basto, rectificado fino y pulido. El flujo de trabajo robótico completo realiza automáticamente la transferencia, el procesamiento, la limpieza y la descarga de las obleas; solo se requiere la alimentación manual de los casetes. La alimentación ultraprecisa del eje Z proporciona una planitud superior de las obleas y un pulido espejo sin daños, mientras que su robusta estructura garantiza una producción en masa estable.
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  • Wafer grinder with air-bearing spindle and chuck table
    Máquina de adelgazamiento de obleas para materiales semiconductores duros y frágiles.
    La HY-WT9230 está diseñada para materiales semiconductores ultraduro y frágiles de hasta 30 cm (12 pulgadas). Equipada con husillos de doble cojinete de aire y un eje Z de rectificado de alta precisión, permite un adelgazamiento de espejo totalmente automático con alta eficiencia y un procesamiento sin daños. Gracias a su plato de vacío poroso y un control de avance ultrafino, la máquina garantiza una planitud y uniformidad de espesor superiores para los procesos de adelgazamiento de obleas semiconductoras.
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  • Ingot laser slicer and grinder
    Máquina de corte y rectificado láser sigiloso de lingotes de SiC para obleas de 6/8/12 pulgadas
    El HY-IS1000 es un equipo de corte y rectificado láser de lingotes de SiC de doble estación que combina procesos de modificación láser y deslaminación de obleas. Utiliza un láser de pulsos ultracortos para formar capas internas modificadas dentro de los lingotes de SiC, lo que permite un corte de obleas sin marcas de sierra y ofrece un alto rendimiento con una variación total de la longitud de la oblea rectificada (TTV) de ≤1,1 μm. Es un equipo esencial para la producción en masa de sustratos semiconductores de tercera generación.
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  • Full-automatic Double-Side Wafer Chamferer
    Máquina totalmente automática de biselado de doble cara de alta precisión para obleas de silicio de 4/6/8 pulgadas.
    HY-WC615 máquina biseladora de obleas de doble cara Está equipada con módulos de posicionamiento por visión CCD y medición de espesor en línea, componentes mecánicos centrales de desarrollo propio y un sistema de carga/descarga totalmente automático, lo que proporciona una precisión de mecanizado excepcional y un funcionamiento táctil fácil de usar para el procesamiento del biselado de obleas.
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  • Automatic 4–12 inch Hard Brittle Wafer Back Grinder
    Máquina de rectificado posterior de obleas de ultraprecisión totalmente automática para línea de producción de circuitos integrados
    La HY-ST3005 procesa sustratos semiconductores duros y frágiles de 4 a 12 pulgadas para un adelgazamiento posterior de alta precisión. Mejorada de forma iterativa para lograr una precisión superior y una estabilidad a largo plazo, cuenta con conjuntos centrales de primera calidad (husillo de rectificado con cojinetes de aire hidrostáticos, husillo para obleas de alta precisión, mesa giratoria de gran diámetro y alta rigidez) y un alto grado de automatización para la producción en masa de obleas de silicio y semiconductores compuestos.
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  • Vertical Single-Station Wafer Grinder
    Máquina vertical de adelgazamiento de obleas de una sola estación para semiconductores de silicio
    La HY-ST3002 procesa obleas de 4 a 12 pulgadas para el adelgazamiento y rectificado de precisión de semiconductores duros y frágiles. Totalmente actualizada con procesos consolidados, ofrece mayor precisión y un rendimiento estable a largo plazo, con una arquitectura de adelgazamiento automático refinada y componentes clave de primera calidad: husillo de rectificado con cojinetes de aire hidrostáticos, husillo de sujeción de obleas con cojinetes de aire hidrostáticos y mesa giratoria de gran diámetro y alta rigidez.
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