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Equipos para el procesamiento de obleas

Equipos para el procesamiento de obleas Se utiliza en la fabricación de semiconductores para procesos de rectificado, pulido, adelgazamiento, corte y preparación de superficies de obleas. Estas máquinas desempeñan un papel fundamental en la fabricación de semiconductores, el empaquetado avanzado, la producción de MEMS, la fabricación de LED y la fabricación de dispositivos de potencia.
La gama de equipos incluye
• Máquinas rectificadoras de obleas
• Equipos de pulido
• Sierras de corte, equipos para adelgazamiento de obleas
• Máquinas de encerado de obleas
• Sistemas de precisión para entornos de fabricación de semiconductores.
  • Automatic Wafer Grinding and Polishing Equipment
    Máquina totalmente automática de rectificado y pulido de obleas para el embalaje de semiconductores.
    La HY-WT9730 admite obleas de hasta 12 pulgadas. Equipada con 3 husillos de rectificado con cojinetes de aire y 4 husillos de piezas con cojinetes de aire, integra procesos de rectificado basto, rectificado fino y pulido. El flujo de trabajo robótico completo realiza automáticamente la transferencia, el procesamiento, la limpieza y la descarga de las obleas; solo se requiere la alimentación manual de los casetes. La alimentación ultraprecisa del eje Z proporciona una planitud superior de las obleas y un pulido espejo sin daños, mientras que su robusta estructura garantiza una producción en masa estable.
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  • Wafer grinder with air-bearing spindle and chuck table
    Máquina de adelgazamiento de obleas para materiales semiconductores duros y frágiles.
    La HY-WT9230 está diseñada para materiales semiconductores ultraduro y frágiles de hasta 30 cm (12 pulgadas). Equipada con husillos de doble cojinete de aire y un eje Z de rectificado de alta precisión, permite un adelgazamiento de espejo totalmente automático con alta eficiencia y un procesamiento sin daños. Gracias a su plato de vacío poroso y un control de avance ultrafino, la máquina garantiza una planitud y uniformidad de espesor superiores para los procesos de adelgazamiento de obleas semiconductoras.
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  • Ingot laser slicer and grinder
    Máquina de corte y rectificado láser sigiloso de lingotes de SiC para obleas de 6/8/12 pulgadas
    El HY-IS1000 es un equipo de corte y rectificado láser de lingotes de SiC de doble estación que combina procesos de modificación láser y deslaminación de obleas. Utiliza un láser de pulsos ultracortos para formar capas internas modificadas dentro de los lingotes de SiC, lo que permite un corte de obleas sin marcas de sierra y ofrece un alto rendimiento con una variación total de la longitud de la oblea rectificada (TTV) de ≤1,1 μm. Es un equipo esencial para la producción en masa de sustratos semiconductores de tercera generación.
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  • Single-Side Copper Polishing Machine
    Pulidora de cobre de precisión de una sola cara con control táctil PLC y acondicionador de discos.
    HY-SP855 pulidora de cobre de una sola cara Realiza el lapeado y pulido de precisión de materiales semiconductores duros y frágiles. Incorpora control táctil PLC y acondicionador de disco integrado, con variador de frecuencia, control de presión de circuito cerrado y refrigeración por agua de la placa. La planitud de la placa acondicionada alcanza los 0,01 mm, lo que garantiza un procesamiento estable y uniforme para la producción en masa de sustratos de alta precisión.
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  • Full-automatic Double-Side Wafer Chamferer
    Máquina totalmente automática de biselado de doble cara de alta precisión para obleas de silicio de 4/6/8 pulgadas.
    HY-WC615 máquina biseladora de obleas de doble cara Está equipada con módulos de posicionamiento por visión CCD y medición de espesor en línea, componentes mecánicos centrales de desarrollo propio y un sistema de carga/descarga totalmente automático, lo que proporciona una precisión de mecanizado excepcional y un funcionamiento táctil fácil de usar para el procesamiento del biselado de obleas.
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  • Wafer Waxing Machine
    Máquina semiautomática de montaje en cera para obleas de silicio y semiconductores compuestos.
    El HY-SW360 se utiliza para montar obleas de semiconductores compuestos sobre placas cerámicas antes de su adelgazamiento. Incorpora una dosificación precisa y cuantitativa de cera sólida, prensado independiente mediante cilindro neumático y control exacto de la temperatura, logrando una TTV ≤0,005 mm tras el montaje. Compuesto por subsistemas de control mecánicos, neumáticos-hidráulicos y eléctricos, proporciona un montaje de cera estable y de alta precisión para procesos de adelgazamiento de obleas.
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  • Automatic 4–12 inch Hard Brittle Wafer Back Grinder
    Máquina de rectificado posterior de obleas de ultraprecisión totalmente automática para línea de producción de circuitos integrados
    La HY-ST3005 procesa sustratos semiconductores duros y frágiles de 4 a 12 pulgadas para un adelgazamiento posterior de alta precisión. Mejorada de forma iterativa para lograr una precisión superior y una estabilidad a largo plazo, cuenta con conjuntos centrales de primera calidad (husillo de rectificado con cojinetes de aire hidrostáticos, husillo para obleas de alta precisión, mesa giratoria de gran diámetro y alta rigidez) y un alto grado de automatización para la producción en masa de obleas de silicio y semiconductores compuestos.
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  • Vertical Single-Station Wafer Grinder
    Máquina vertical de adelgazamiento de obleas de una sola estación para semiconductores de silicio
    La HY-ST3002 procesa obleas de 4 a 12 pulgadas para el adelgazamiento y rectificado de precisión de semiconductores duros y frágiles. Totalmente actualizada con procesos consolidados, ofrece mayor precisión y un rendimiento estable a largo plazo, con una arquitectura de adelgazamiento automático refinada y componentes clave de primera calidad: husillo de rectificado con cojinetes de aire hidrostáticos, husillo de sujeción de obleas con cojinetes de aire hidrostáticos y mesa giratoria de gran diámetro y alta rigidez.
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  • Semiconductor Substrate Chemical Mechanical Polisher
    Máquina de pulido CMP de una sola cara para sustratos semiconductores
    La HY-SP910 está equipada con un sistema de control PLC y pantalla táctil para una configuración sencilla, un funcionamiento fácil y un rendimiento estable. Realiza un pulido ultrapreciso de una sola cara en componentes delgados, compatibles con sustratos semiconductores (zafiro, SiC, silicio y obleas epitaxiales), así como con obleas de vidrio óptico, cristales de cuarzo, obleas cerámicas, piezas de acero inoxidable y conectores de fibra óptica.
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