Limpiador de plasma al vacío ICP de sobremesa con cámara de cuarzo de 2,5 L para investigación de laboratorio

Introducción del producto

HY-EB03H Limpiador de plasma ICP de sobremesa con cámara de cuarzo de 2,5 L Es un sistema compacto de tratamiento de superficies por plasma diseñado para laboratorios de investigación universitarios, centros de I+D empresariales y producción piloto a pequeña escala. Equipado con una cámara de procesamiento cilíndrica de vidrio de cuarzo, el sistema completo consta de un generador de plasma de radiofrecuencia, una bomba de vacío y puertos de entrada y salida de gas independientes. Gracias a la tecnología de plasma acoplado inductivamente (ICP), puede generar plasma uniforme de alta densidad de forma estable.

Este equipo mejora eficazmente la adhesión a la superficie del sustrato y optimiza la hidrofilicidad de la superficie, y se aplica ampliamente a la unión de chips microfluídicos de PDMS, el recubrimiento de materiales, la deposición de películas delgadas, la eliminación de fotorresina y una amplia gama de procesos de modificación de la superficie de los materiales.

Aplicación del producto

Características del producto

1. La cámara de vacío está hecha de vidrio de cuarzo, fácil de limpiar y libre de contaminación para analizar las muestras.

2. Equipado con un generador de plasma de RF de estado sólido de 13,56 MHz con ajuste automático de impedancia, que ofrece una excelente estabilidad y repetibilidad.

3. El panel de control adopta un diseño ergonómico con una inclinación de 30° para facilitar su manejo y ofrecer una interfaz intuitiva.

4. Dos canales de gas independientes equipados con controladores de flujo másico permiten un ajuste y una regulación precisos de los caudales de gas, lo que facilita la investigación sobre cómo las diferentes proporciones de gas afectan a los resultados del tratamiento.

5. La tecnología de generación de plasma acoplado inductivamente (ICP) genera plasma de alta densidad.

Dibujo esquemático de la máquina y diagrama de la cámara de vacío

 

 

Especificaciones técnicas

 

No.	Artículo	Especulación.	Parámetro
1	Generador de plasma	Salida de potencia de estado sólido	Potencia ajustable continuamente de 0 a 15 W, salida de onda sinusoidal estándar, estabilidad ≤±0,5 %; con protección contra sobretensión, sobrecorriente, sobretemperatura y potencia reflejada.
		Frecuencia de funcionamiento	Fuente de alimentación de RF de estado sólido de 13,56 MHz
		Adaptación de impedancias	Emparejamiento automático de alta velocidad en 0,1 s, compatible con comunicación de red.
2	Cámara de reacción al vacío	Material de la cámara	Vidrio de cuarzo resistente al calor
		Volumen de la cámara	2,5 litros
		Bandeja de muestras	Bandeja de vidrio paralela
		Dimensión de la cámara cilíndrica	Φ105×300 (D) mm
3	Control de la trayectoria del gas	Controlador de flujo másico	300 SCCM
		Canales de gas	2 líneas de gas independientes, compatibles con O₂, Ar, N₂, H₂, etc.
			Por favor, infórmenos con antelación si se requiere gas corrosivo.
4	Medición de vacío	Sistema de medición de vacío	Rango de medición: 5×10⁻² ~ 1,0×10⁵ Pa
			Precisión de la medición: 1 Pa
5	Sistema de bombeo	Bomba de vacío	8 m³/H
6	Sistema de control	Pantalla táctil	7 pulgadas
		Elementos de monitoreo en tiempo real	Potencia de salida, nivel de vacío, flujo de gas, tiempo de procesamiento, etc.
		Modo de control	Control PLC
		Software de control	Sistema de control de plasma patentado de desarrollo propio con tres niveles de acceso; modo automático y manual, configuración de parámetros de recetas, guardado y recuperación, consulta del historial de alarmas y monitorización de señales de E/S.
		Funciones de protección de alarma	Alarma de protección de vacío, alarma de protección de descarga luminiscente, alarma de protección de energía
		Función de equilibrio de presión	Admite la entrada de gas de proceso para la ecualización de presión, con duración de balance ajustable.
7	Condiciones de funcionamiento del sitio	Fuente de alimentación	220V±10% 50/60Hz 9A
		Conexión de tubería de gas	Puerto de 6 mm de diámetro
		Pureza de gas requerida	99,99%
		Presión de entrada del gas	0,4–0,6 MPa
		Puerto de escape	Interfaz de brida KF25
8	Parámetros generales de la máquina	Potencia total de la máquina	≤ 2 kW
		Dimensiones exteriores generales	551,5 mm (largo) × 480 mm (ancho) × 546,5 mm (alto)

 

Entorno operativo (elementos que debe preparar el cliente)

 

No.	Artículo	Requisitos
1	Fuente de alimentación y potencia nominal	Alimentación eléctrica: 220 V, 50/60 Hz, fluctuación de tensión permitida ±10 %; el cable de tierra debe cumplir con las normas internacionales. No debe haber interferencias electromagnéticas intensas en las inmediaciones de la zona de instalación del equipo.
2	Entorno de instalación	Temperatura ambiente: 0–40 °C; Humedad relativa: 15 %–60 %
3	Preparación de la fuente de gas	Cilindros de gas para O₂, Ar, N₂, H₂, etc. (debe estar equipado con válvulas reductoras de presión). Presión del gas de entrada ＞0,3 MPa; diámetro del puerto de la tubería de gas: Φ6 mm
4	Conducto de escape	Conectar al puerto de escape de la bomba de vacío (obligatorio para su uso en salas blancas).