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Máquina compacta de limpieza por plasma al vacío con potencia ajustable de 0 a 300 W para I+D de laboratorio.

HY-ES10 Es un sistema experimental de tratamiento con plasma, ampliamente adoptado por institutos de investigación, universidades, laboratorios de I+D de empresas y líneas de producción de bajo volumen. Utiliza tecnología de descarga de plasma acoplado capacitivamente (CCP). El sistema completo consta de una cámara de vacío, un generador de plasma, una bomba de vacío y puertos de entrada y salida de gas. La cámara de tratamiento está fabricada en acero inoxidable cuadrado.

  • Marca :

    HYRNUS
  • Número de artículo :

    HY-ES10
  • Pedido (cantidad mínima de pedido) :

    1 Set
  • Garantía :

    One-Year Warranty and Lifetime Maintenance
  • Pago :

    T/T
  • Plazo de entrega :

    7-35 Days
  • Origen del producto :

    China
  • Máquina compacta de limpieza por plasma al vacío con potencia ajustable de 0 a 300 W para I+D de laboratorio.

    Introducción del producto

    HY-ES10 es un Máquina de limpieza por plasma al vacío compacta con potencia ajustable de 0 a 300 W. Diseñado para universidades, institutos de investigación, laboratorios de I+D corporativos y aplicaciones de prototipado de lotes pequeños. Gracias a la tecnología de generación de plasma acoplado capacitivamente (CCP), madura y fiable, la unidad presenta un diseño integrado todo en uno que consta de una cámara de reacción al vacío, un generador de plasma, una unidad de bombeo de vacío, un circuito de gas de precisión multicanal y un sistema de control PLC inteligente.

    Mediante tecnología de plasma a baja temperatura, la máquina realiza diversos procesos, como limpieza de superficies, activación, micrograbado, unión de obleas y eliminación de fotorresina. Mejora significativamente la adhesión de la superficie del material y modifica sus propiedades hidrofílicas o hidrofóbicas, funcionando como equipo de preprocesamiento universal para procesos de unión de materiales, recubrimiento y deposición de películas sobre sustratos.

    Aplicación del producto

    1. Limpieza: Eliminación de materia orgánica, óxidos, sales metálicas, contaminantes particulados a nanoescala, etc.

    2. Activación: Modificación hidrofílica/hidrofóbica, mejora de la energía superficial, injerto de grupos funcionales, optimización de la biocompatibilidad, etc.

    3. Grabado: Creación de patrones superficiales, micrograbado, ajuste de la morfología y la rugosidad de la superficie, etc.

    4. Unión: Unión de dispositivos microfluídicos como chips de PDMS.

    5. Eliminación de la fotorresina: Eliminación de la fotorresina, del recubrimiento antirreflectante inferior (BARC), etc.

     

    Plasma processing application

     

    Características del producto

    1. Cámara de vacío de acero inoxidable con proceso de soldadura de grado militar, que ofrece una excelente estanqueidad y una extraordinaria resistencia a la corrosión.

    2. Equipado con 2 electrodos integrados y bandejas de procesamiento multicapa para maximizar el aprovechamiento del espacio.

    3. Interfaz hombre-máquina (HMI) intuitiva con pantalla táctil para un funcionamiento sencillo, que muestra los parámetros del proceso en tiempo real.

    4. Permite almacenar múltiples recetas de procesos para su recuperación con un solo clic, lo que posibilita la trazabilidad completa de los datos.

    5. Se han configurado dos canales de gas independientes para facilitar la investigación sobre cómo las diferentes proporciones de gas afectan a los resultados de la limpieza.

    6. El sistema de distribución de gas por convección genera una circulación dinámica de gas durante el funcionamiento, con una entrada de aire uniforme para ofrecer un rendimiento de limpieza superior.

    Dibujo esquemático de la máquina y diagrama de la cámara de vacío

     

    Machine Outline Drawing and Vacuum Chamber Diagram

     

    Especificaciones técnicas

     
    No.CategoríaNombre del artículoParámetros
    1Generador de plasmaFuerza0–300W, ajustable de forma continua
    Frecuencia40 kHz
    2Cámara de reacción al vacíoMaterial de la cámaraAcero inoxidable 316 importado con sellado de grado militar.
    Volumen de la cámara10,8 L
    Dimensiones de la cámara200 (ancho) × 270 (profundidad) × 200 (alto) mm
    Área de procesamiento efectiva de una sola capa176 (ancho) × 210 (profundidad) mm
    Cantidad de electrodos2 electrodos dedicados de aleación de aluminio chapados en oro
    Capas de procesamiento3 capas
    Espacio entre niveles de una sola capaH: 35 mm
    3Sistema de control de gasControlador de flujo de gas500 SCCM
    Cantidad de canales de gas2 canales independientes, compatibles con O, Ar, N, H, etc.
    (Avísanos con antelación si necesitas gas corrosivo)
    4Medición de vacíoSistema de medición de vacíoRango de medición: 5×10² ~ 1,0×10⁵ Pa
    Precisión de medición: 0,1 Pa
    5Sistema de bombeoBomba de vacíoVelocidad de bombeo: 16 m³/h
    Tubería de vacíoTubería de acero inoxidable + válvulas neumáticas
    6Sistema de controlPantalla táctil7 pulgadas
    Modo de controlSOCIEDAD ANÓNIMA
    Monitoreo en tiempo realPotencia, duración de funcionamiento
    Programa de softwareSistema de control de plasma patentado de desarrollo propio, modo automático/manual, monitorización de E/S.
    Función de alarmaProtección contra el mal funcionamiento del sistema de vacío
    Función de equilibrio de presiónAdmite entrada de gas de proceso con tiempo de preequilibrio ajustable.
    7Requisitos de servicios públicosFuente de alimentación220V 50/60Hz 9A
    Interfaz de tubería de gasDiámetro: 6 mm
    Pureza del gas99,99%
    Presión de gas0,4–0,6 MPa
    Puerto de escapeKF25

     

    Entorno operativo (elementos que debe preparar el cliente)

     

    No.CategoríaRequisitos
    1Fuente de alimentaciónAlimentación eléctrica: 220 V, 50/60 Hz, fluctuación de tensión ±10 %; el cable de tierra debe cumplir las normas internacionales; no debe haber fuertes interferencias electromagnéticas en las inmediaciones del lugar de instalación.
    2Condiciones de instalaciónTemperatura ambiente: 0–40°C; Humedad relativa ambiente: 15%–60%.
    3Suministro de gasCilindros de gas para O, Ar, N, H etc. (debe estar equipado con regulador de presión); presión de entrada 0,3 MPa; tamaño del conector de tubería de gas: Φ6 mm.
    4Tubo de escapeConectar al puerto de escape de la bomba de vacío (obligatorio si está instalada en habitaciones limpias/libres de polvo).

     

    Detalles del producto

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    Compact Vacuum Plasma Treatment System
    0–300W Adjustable Plasma Cleaning Machine Compact Vacuum Plasma Cleaner
     
     
     
     
     
     
     
     

     

     

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