
Introducción del producto
HY-ES10 es un Máquina de limpieza por plasma al vacío compacta con potencia ajustable de 0 a 300 W. Diseñado para universidades, institutos de investigación, laboratorios de I+D corporativos y aplicaciones de prototipado de lotes pequeños. Gracias a la tecnología de generación de plasma acoplado capacitivamente (CCP), madura y fiable, la unidad presenta un diseño integrado todo en uno que consta de una cámara de reacción al vacío, un generador de plasma, una unidad de bombeo de vacío, un circuito de gas de precisión multicanal y un sistema de control PLC inteligente.
Mediante tecnología de plasma a baja temperatura, la máquina realiza diversos procesos, como limpieza de superficies, activación, micrograbado, unión de obleas y eliminación de fotorresina. Mejora significativamente la adhesión de la superficie del material y modifica sus propiedades hidrofílicas o hidrofóbicas, funcionando como equipo de preprocesamiento universal para procesos de unión de materiales, recubrimiento y deposición de películas sobre sustratos.

Aplicación del producto
1. Limpieza: Eliminación de materia orgánica, óxidos, sales metálicas, contaminantes particulados a nanoescala, etc.
2. Activación: Modificación hidrofílica/hidrofóbica, mejora de la energía superficial, injerto de grupos funcionales, optimización de la biocompatibilidad, etc.
3. Grabado: Creación de patrones superficiales, micrograbado, ajuste de la morfología y la rugosidad de la superficie, etc.
4. Unión: Unión de dispositivos microfluídicos como chips de PDMS.
5. Eliminación de la fotorresina: Eliminación de la fotorresina, del recubrimiento antirreflectante inferior (BARC), etc.


Características del producto
1. Cámara de vacío de acero inoxidable con proceso de soldadura de grado militar, que ofrece una excelente estanqueidad y una extraordinaria resistencia a la corrosión.
2. Equipado con 2 electrodos integrados y bandejas de procesamiento multicapa para maximizar el aprovechamiento del espacio.
3. Interfaz hombre-máquina (HMI) intuitiva con pantalla táctil para un funcionamiento sencillo, que muestra los parámetros del proceso en tiempo real.
4. Permite almacenar múltiples recetas de procesos para su recuperación con un solo clic, lo que posibilita la trazabilidad completa de los datos.
5. Se han configurado dos canales de gas independientes para facilitar la investigación sobre cómo las diferentes proporciones de gas afectan a los resultados de la limpieza.
6. El sistema de distribución de gas por convección genera una circulación dinámica de gas durante el funcionamiento, con una entrada de aire uniforme para ofrecer un rendimiento de limpieza superior.

Dibujo esquemático de la máquina y diagrama de la cámara de vacío


Especificaciones técnicas
| No. | Categoría | Nombre del artículo | Parámetros |
| 1 | Generador de plasma | Fuerza | 0–300W, ajustable de forma continua |
| Frecuencia | 40 kHz |
| 2 | Cámara de reacción al vacío | Material de la cámara | Acero inoxidable 316 importado con sellado de grado militar. |
| Volumen de la cámara | 10,8 L |
| Dimensiones de la cámara | 200 (ancho) × 270 (profundidad) × 200 (alto) mm |
| Área de procesamiento efectiva de una sola capa | 176 (ancho) × 210 (profundidad) mm |
| Cantidad de electrodos | 2 electrodos dedicados de aleación de aluminio chapados en oro |
| Capas de procesamiento | 3 capas |
| Espacio entre niveles de una sola capa | H: 35 mm |
| 3 | Sistema de control de gas | Controlador de flujo de gas | 500 SCCM |
| Cantidad de canales de gas | 2 canales independientes, compatibles con O₂, Ar, N₂, H₂, etc. |
| (Avísanos con antelación si necesitas gas corrosivo) |
| 4 | Medición de vacío | Sistema de medición de vacío | Rango de medición: 5×10⁻² ~ 1,0×10⁵ Pa |
| Precisión de medición: 0,1 Pa |
| 5 | Sistema de bombeo | Bomba de vacío | Velocidad de bombeo: 16 m³/h |
| Tubería de vacío | Tubería de acero inoxidable + válvulas neumáticas |
| 6 | Sistema de control | Pantalla táctil | 7 pulgadas |
| Modo de control | SOCIEDAD ANÓNIMA |
| Monitoreo en tiempo real | Potencia, duración de funcionamiento |
| Programa de software | Sistema de control de plasma patentado de desarrollo propio, modo automático/manual, monitorización de E/S. |
| Función de alarma | Protección contra el mal funcionamiento del sistema de vacío |
| Función de equilibrio de presión | Admite entrada de gas de proceso con tiempo de preequilibrio ajustable. |
| 7 | Requisitos de servicios públicos | Fuente de alimentación | 220V 50/60Hz 9A |
| Interfaz de tubería de gas | Diámetro: 6 mm |
| Pureza del gas | 99,99% |
| Presión de gas | 0,4–0,6 MPa |
| Puerto de escape | KF25 |
Entorno operativo (elementos que debe preparar el cliente)
| No. | Categoría | Requisitos |
| 1 | Fuente de alimentación | Alimentación eléctrica: 220 V, 50/60 Hz, fluctuación de tensión ±10 %; el cable de tierra debe cumplir las normas internacionales; no debe haber fuertes interferencias electromagnéticas en las inmediaciones del lugar de instalación. |
| 2 | Condiciones de instalación | Temperatura ambiente: 0–40°C; Humedad relativa ambiente: 15%–60%. |
| 3 | Suministro de gas | Cilindros de gas para O₂, Ar, N₂, H₂ etc. (debe estar equipado con regulador de presión); presión de entrada >0,3 MPa; tamaño del conector de tubería de gas: Φ6 mm. |
| 4 | Tubo de escape | Conectar al puerto de escape de la bomba de vacío (obligatorio si está instalada en habitaciones limpias/libres de polvo). |